4组掩膜版文件
所属分类：其他
开发工具：PSCAD
文件大小：49KB
下载次数：2
上传日期：2017-11-10 16:33:32
上 传 者：
大白牙大
说明： 14*14mm 光刻掩膜版 mems微米纳米概论 正光刻
(14 * 14mm lithography mask mems micro-nano Introduction Positive Lithography)
文件列表:
掩模板设计张俊昌\Thumbs.db (12800, 2017-11-04)
掩模板设计张俊昌\yanmobansheji（zhamgjunchang）.DWG (276193, 2017-11-03)
掩模板设计张俊昌\yanmobansheji（zhangjunchang）.tdb (51785, 2017-11-03)
掩膜版设计冯森 (0, 2017-11-04)
掩膜版设计冯森\Thumbs.db (4608, 2017-11-04)
掩膜版设计冯森\fengs2.dwg (42284, 2017-11-04)
掩膜版设计冯森\fengs2.tdo (45187, 2017-11-04)
掩模板设计张俊昌 (0, 2017-11-04)
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