etching-technique-
所属分类:OpenGL
开发工具:PPT
文件大小:3153KB
下载次数:4
上传日期:2013-06-22 14:55:47
上 传 者:
chaoranwuwai00
说明: 在硅片表面形成光刻胶图形之后,通过刻蚀工艺将设计图形转移到光刻胶下边的介质层上
(Forming a resist pattern on the wafer surface after the etching process by the design pattern is transferred to the photoresist on the dielectric layer below)
文件列表:
刻蚀技术.PPT (3465728, 2012-12-25)
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